光刻胶具有一定的表面张力，在旋转涂覆过程中，由于离心力和表面张力的共同作用，光刻胶会在晶圆边缘处形成堆积现象。尤其是当光刻胶的粘度较高时，表面张力的影响更加明显，更容易导致边缘堆积。

由于边缘光刻胶的溶剂残留量高，即使在前烘后，掩膜板也会粘附在光刻胶膜上，会污染掩膜板。在曝光过程中，边珠还会在光刻胶膜和掩膜板之间充当不必要的间隙，这通常会导致光刻胶曝光的图案分辨率低、尺寸误差大或显影后图案的侧壁不陡直等。

为了减少这种情况，要进行边缘冲洗，还要设置背面冲洗功能，以防止光刻胶倒流到晶圆背面。如果无法通过自动化设备成去边角工艺（EBR）的话，以通过以下措施帮助减少/消除边胶:

• 尽可能使用圆形基底：使用配套EBR溶剂，利用一个带有细喷嘴的洗瓶，在500 rpm左右动态去除边胶；

• 使用一种以足够高的旋转速度(3000-4000rpm/min)达到目标膜厚的胶膜；

• 对于非常厚的光刻胶：利用较高的加速度，在短时间内获得较高的旋转速度 ；

• 当光刻胶层已经足够干燥，但边胶仍然有足够的液体时，在旋涂工艺末端突然增加旋转速度使边胶脱离；

• 非圆形衬底: 如有可能的话，可将衬底边缘片与边缘珠一起裁切掉，或用洁净间的刷子将边胶刷洗掉。