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讲起EUV光刻机，那绝对是大家最关注的玩意。但锡液（Sn）在EUV中的应用，大家关注的还是很少的。
今天我们来看看，锡液在EUV光刻机中有什么用？
用于大规模生产的EUV光刻机光源均是采用液滴Sn靶作为极紫外光源发生器的。
为什么要用锡液？
第一、发出13.5nm波段EUV的金属主要靶材为氙(Xe) 、锂(Li) 、锡(Sn)；
第二、Sn在13.5nm波长处的反射率占比最大；
第三、锂等离子体处在高温环境下时，会有极少量2价离子处于电离平衡态，即等离子体仅由剩余原子核和自由电子组成，且无任何谱线发出；氙光谱纯度较差；锡的等离子体中由高价态8价到12价跃迁形成。
锡液具体怎么用？
锡液发生器使锡液滴落入真空室——脉冲式高功率激光器击中从旁飞过的锡液滴，前脉冲和主脉冲击中锡液使其气化——锡原子被电离，产生高强度的等离子体——收集镜捕获等离子体向所有方向发出的EUV辐射并汇聚形成光源——将集中起来的光源传递至光刻系统——最后照射到wafer上，完成曝光！
