PMMA是电子束光刻中用的材料,具有光敏性吗,算光刻胶吗?PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)是最常见的正性电子束光刻胶之一。虽然是电子束光刻胶,但是本身不具有光敏性,它是一种聚合物。未加工状态是固体粉末,可以溶解在氯苯、二氯甲烷中,形成液态的可旋涂的物质。
电子束光刻(EBL)是一种无掩模光刻技术,与传统的UV,DUV,EUV光刻不同,电子束光刻利用波长更短的电子束来进行曝光,分辨率可达<10nm。但是曝光速率极低,不适合量产使用。
PMMA不是光敏材料,它不会对紫外线(UV)光产生反应。它是一种电子束敏感抗蚀剂,当电子束照射到PMMA时,它会断裂聚合物链,使曝光的区域更容易在显影液。
电子束光刻的显影液一般为有机溶剂,如甲基异丁基酮(MIBK)、异丙醇(IPA)等。UV光刻的显影液一般为水碱性溶液,如四甲基氢氧化铵(TMAH)。