芯片可靠性是一门研究芯片如何在规定的时间和环境条件下保持正常功能的科学。它关注的核心不是芯片能否工作，而是能在高温、高电压、持续运行等压力下稳定工作多久。随着晶体管尺寸进入纳米级别，芯片内部犹如一个承受着巨大电、热、机械应力考验的微观世界，其可靠性面临着原子尺度的根本性挑战。

栅氧击穿

在芯片的每个晶体管中，栅极与沟道之间隔着一层极薄的二氧化硅绝缘层，称为栅氧。在先进制程中，这层材料的厚度仅相当于几个原子的直径。它的作用是隔绝栅极电压，防止漏电。然而，当施加在它上面的电场强度过高时，问题就会出现。

栅氧击穿的机理类似于堤坝在高水压下出现管涌直至崩溃。强电场会使电子以极高的能量隧穿或注入到氧化层中。这些电子在氧化层中撞击原子，逐渐造成微观缺陷的积累。随着时间推移，这些缺陷连接成一条导电路径，导致栅极与沟道之间发生瞬间短路，晶体管永久失效。这一过程被称为“时间依赖介电击穿”。工艺波动导致氧化层局部变薄、芯片工作时电压波动或静电放电，都可能诱发或加速这一过程。

金属电迁移

芯片内部密布着总长度可达数十公里的金属互连线，负责在不同晶体管之间传递电流和信号。当电流密度非常高时，流动的电子会与金属原子发生动量交换，形成一股持续的“电子风”。

这股力量会推动金属原子沿着电子流动的方向缓慢迁移。经年累月，原子迁出的区域会形成微观的“空洞”，导致导线电阻增大甚至完全断开，造成开路失效。而在原子堆积的区域，则可能形成“小丘”，可能刺穿绝缘层与相邻导线短路，或导致层间连接失效。电迁移的速率与电流密度的平方成正比，并随温度升高呈指数增长。因此，高性能芯片在计算密集型任务时，局部过热和高电流会显著加剧这一风险。

界面态不稳定

在硅衬底与栅氧层之间的交界处，存在着一个原子尺度上的模糊界面。这里可能存在未完美结合的化学键（悬挂键）或其他晶格缺陷，形成所谓的“界面态”。

这些界面态如同能量陷阱，可以捕获或释放电荷载流子（电子或空穴）。在外加电场（特别是栅压）和温度应力的共同作用下，界面处的电荷分布会发生变化。例如，正偏置温度不稳定性会导致阈值电压漂移，使晶体管开关变得迟缓或提前；热载流子注入则可能造成性能的永久性退化。这种不稳定性的直接后果是晶体管的关键电学参数（如阈值电压、跨导）随时间发生漂移，导致电路时序出错、功耗增加、信号噪声变大，最终使芯片性能偏离设计指标。