光刻胶也可以在密封的真空袋中获得。在运输和存储期间保护光刻胶。在使用过程中，随着光刻胶的分配，袋子继续塌陷，防止空气接触到光刻胶表面。

保质期

光刻胶容器附有推荐的保质期。问题再次与光刻胶的自聚合或光溶解有关。随着时间的推移，聚合物的变化会发生，当它到达生产线时会改变光刻胶的性能。

清洁度

表面准备

在本文中，将使用各种类比来帮助读者理解复杂的过程。光掩膜工艺的一个好类比是绘画。即使是业余画家也很快就会了解到，要最终得到一个平滑的油漆膜并且黏附得很好，表面必须是干燥和清洁的。在光掩膜技术中也是如此。确保光刻胶会粘附到晶圆表面需要表面准备。这一步分为三个阶段：颗粒去除、脱水和底漆。

颗粒去除

来到光掩膜区域的晶圆几乎总是来自氧化、掺杂或CVD等其他工艺的清洁状态。然而，在存储、装载和卸载到载体期间，它们可能会沾上一些颗粒污染物，这些污染物必须从表面清除。根据污染水平和/或工艺要求，可能会使用几种颗粒去除技术（见下图所示）。在极端情况下，晶圆可能会经过类似干预氧化清洁过程的湿化学清洁，包括酸性清洁、水冲洗和干燥。使用的特定酸必须与晶圆表面的顶层兼容。颗粒去除方法与之前章节描述的相同：手动吹扫、机械擦洗和/或高压水喷雾。

脱水烘烤

已经提到，晶圆表面必须是干燥的以促进黏附。干燥表面被称为疏水性，这是一种化学状态。液体在疏水表面上形成小滴，例如新车上蜡后水珠的形成。疏水表面有利于良好的光刻胶黏附（见下图所示）。来到掩膜操作的晶圆通常具有疏水表面。