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2nm设备成功出货
2024年09月30日 09:23   浏览:274   来源:小萍子

日本企业佳能(Canon)在2023年10月发表了采用奈米压印微影 (NIL)技术的设备「FPA-1200NZ2C」,该设备可用来生产5奈米芯片,经过改良后甚至能生产2奈米。最新消息显示,FPA-1200NZ2C已经首度进行出货,买家则是位于美国德州的机构「德州电子研究所」(Texas Institute for Electronics,TIE)。

佳能在周四(26日)的新闻稿中,指出TIE在2021年成立,得到了德州大学奥斯汀分校的支援,并由德州和地方政府、半导体企业、国家研究机构等组成,未来TIE将使用NIL设备研发、试产先进半导体。

微影是半导体元件制造制程中的重要步骤,NIL是透过电子束在光罩上刻下图案,然后压印在已涂满光阻的硅晶圆上,进而产生图案,原理类似制作糕饼时,利用木头模具在糕饼上压印出花纹,相比目前先进制程使用的极紫外光微影(EUV)技术,NIL的制程更简单且成本更低。

根据佳能说法,NIL设备的耗电量,只有EUV的10分之1。



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