日本企业佳能（Canon）在2023年10月发表了采用奈米压印微影（NIL）技术的设备「FPA-1200NZ2C」，该设备可用来生产5奈米芯片，经过改良后甚至能生产2奈米。最新消息显示，FPA-1200NZ2C已经首度进行出货，买家则是位于美国德州的机构「德州电子研究所」（Texas Institute for Electronics，TIE）。

佳能在周四（26日）的新闻稿中，指出TIE在2021年成立，得到了德州大学奥斯汀分校的支援，并由德州和地方政府、半导体企业、国家研究机构等组成，未来TIE将使用NIL设备研发、试产先进半导体。

微影是半导体元件制造制程中的重要步骤，NIL是透过电子束在光罩上刻下图案，然后压印在已涂满光阻的硅晶圆上，进而产生图案，原理类似制作糕饼时，利用木头模具在糕饼上压印出花纹，相比目前先进制程使用的极紫外光微影（EUV）技术，NIL的制程更简单且成本更低。